विकसक
पॅरामीटर सारणी
अर्ज क्षेत्र | वर्गीकरण | उत्पादनाचे नाव | दुसरे नाव | उत्पादन गुणवत्ता |
TFT-LCD | विकास | Cf विकसक | CF विकास | |
ॲरे डेव्हलपर | २५%TMAH | |||
पोटॅशियम हायड्रॉक्साइड | कोह | |||
सोडियम हायड्रॉक्साइड | NaOH |
उत्पादन वर्णन
इंटिग्रेटेड सर्किट आणि डिस्प्ले पॅनेलच्या निर्मितीमध्ये, "विकास" हा सहसा उघड न झालेल्या भागातून फोटोरेसिस्ट काढण्यासाठी वापरल्या जाणाऱ्या फोटोलिथोग्राफी प्रक्रियेतील पायरीचा संदर्भ देतो. ही पायरी उत्पादन प्रक्रियेत महत्त्वपूर्ण आहे कारण ती सामग्रीची रचना आणि रचना परिभाषित करते, ज्यामुळे उपकरणाच्या कार्यक्षम कार्यक्षमतेवर परिणाम होतो. फोटोलिथोग्राफी प्रक्रियेत, विकसनशील द्रावणाचा वापर चिप पृष्ठभागावर झाकून ठेवलेल्या फोटोरेसिस्टवर प्रक्रिया करण्यासाठी आणि उघड न झालेल्या भागात फोटोरेसिस्ट काढून टाकण्यासाठी केला जातो.
विशिष्ट वापरामध्ये सहसा खालील चरणांचा समावेश असतो:
तयारी:विकसित करण्यापूर्वी, आपल्याला विकसनशील उपकरणे आणि विकसनशील समाधान तयार करणे आवश्यक आहे. विकसनशील द्रावण सामान्यत: एक विशेष रासायनिक द्रावण असते जे निवडकपणे उघड नसलेल्या भागात फोटोरेसिस्ट विरघळते.
भिजवणे:फोटोरेसिस्टने झाकलेली चिप विकसनशील द्रावणात भिजवली जाते. फोटोरेसिस्ट योग्यरित्या काढला गेला आहे याची खात्री करण्यासाठी भिजण्याची वेळ आणि तापमान सामान्यतः नियंत्रित करणे आवश्यक आहे.
धुणे:विकास पूर्ण झाल्यानंतर, विकसनशील द्रावणाचे अवशेष आणि इतर अशुद्धता काढून टाकण्यासाठी चिपला सहसा धुवावे लागते.
वाळवणे:शेवटी, त्याची पृष्ठभाग कोरडी आणि अवशेष मुक्त आहे याची खात्री करण्यासाठी चिप वाळवणे आवश्यक आहे.
डिस्प्ले पॅनेलच्या निर्मितीमध्ये, डिस्प्ले पॅनेलसाठी विशिष्ट नमुने किंवा संरचना तयार करण्यासाठी विशिष्ट सामग्री किंवा संयुगे काढून टाकण्यासाठी समान विकास चरणांचा वापर केला जाऊ शकतो. हे लक्षात घेण्यासारखे आहे की विकास प्रक्रियेसाठी प्रक्रिया पॅरामीटर्स आणि वेळेचे कठोर नियंत्रण आवश्यक आहे जेणेकरून परिणामी नमुने आणि संरचना डिझाइन आवश्यकता आणि उत्पादन अचूकतेची पूर्तता करतात. याव्यतिरिक्त, कोणत्याही उत्पादन प्रक्रियेत, रासायनिक पदार्थांच्या वापरासाठी संबंधित सुरक्षित कार्यप्रणाली आणि पर्यावरण संरक्षण आवश्यकतांचे पालन करणे आवश्यक आहे.
सेमीकंडक्टर उद्योगातील फोटोलिथोग्राफी प्रक्रियेमध्ये डेव्हलपर्सचा वापर प्रामुख्याने केला जातो. फोटोलिथोग्राफी प्रक्रिया ही सेमीकंडक्टर उत्पादनातील एक महत्त्वाची पायरी आहे, जी चिपवरील सिलिकॉन वेफर्सवर लहान नमुने आणि संरचना परिभाषित करण्यासाठी वापरली जाते. फोटोलिथोग्राफी प्रक्रियेत, फोटोरेसिस्टला सिलिकॉन वेफरच्या पृष्ठभागावर लेपित केले जाते आणि नंतर मास्क वापरून आणि अतिनील प्रकाशाच्या प्रदर्शनाद्वारे नमुना फोटोरेसिस्टकडे हस्तांतरित केला जातो. त्यानंतर, विकासक स्टेजवर येतो. डेव्हलपरचे कार्य म्हणजे फोटोरेसिस्टचा फोटोलिथोग्राफ केलेला भाग विरघळवणे किंवा काढून टाकणे, त्याद्वारे इच्छित नमुना सिलिकॉन वेफरमध्ये हस्तांतरित करणे. ही पायरी त्यानंतरच्या एचिंग, डिपॉझिशन आणि इतर प्रक्रियांसाठी पाया घालते, हे सुनिश्चित करते की चिपवरील आवश्यक मायक्रोस्ट्रक्चर सिलिकॉन वेफरवर अचूकपणे कॉपी केले जाऊ शकते. डेव्हलपरची निवड आणि वापर यांचा अंतिम चिपच्या गुणवत्तेवर आणि कार्यक्षमतेवर महत्त्वपूर्ण प्रभाव पडतो, त्यामुळे सेमीकंडक्टर उद्योगाच्या उत्पादनामध्ये विकसकाचा वापर काटेकोरपणे नियंत्रित आणि प्रमाणित करणे आवश्यक आहे.
वर्णन2