Inquiry
Form loading...
Danh mục sản phẩm
Sản phẩm nổi bật

Nhà phát triển

Dung dịch tráng phủ hóa chất TFT là một loại hóa chất được sử dụng trong quá trình sản xuất bóng bán dẫn màng mỏng (TFT). TFT là một thành phần chính được sử dụng trong màn hình tinh thể lỏng và chất tráng phủ đóng vai trò quan trọng trong quá trình sản xuất TFT.

    Bảng tham số

    Khu vực ứng dụng

    Phân loại

    Tên sản phẩm

    Tên khác

    Chất lượng sản phẩm

    Màn hình TFT-LCD

    Phát triển

    Nhà phát triển Cf Phát triển CF
    Nhà phát triển mảng 25%TMAH
    Kali Hydroxit KOH
    Natri Hydroxit NaOH

    Mô tả sản phẩm

    Trong sản xuất mạch tích hợp và bảng hiển thị, "phát triển" thường đề cập đến bước trong quy trình quang khắc được sử dụng để loại bỏ chất cản quang khỏi các vùng không được phơi sáng. Bước này rất quan trọng trong quy trình sản xuất vì nó xác định kiểu mẫu và cấu trúc của vật liệu, ảnh hưởng đến hiệu suất chức năng của thiết bị. Trong quy trình quang khắc, dung dịch phát triển được sử dụng để xử lý chất cản quang phủ trên bề mặt chip và loại bỏ chất cản quang ở các vùng không được phơi sáng.

    Cách sử dụng cụ thể thường bao gồm các bước sau:
    Sự chuẩn bị:Trước khi tráng, bạn cần chuẩn bị thiết bị tráng và dung dịch tráng. Dung dịch tráng thường là dung dịch hóa học đặc biệt có tác dụng hòa tan chọn lọc chất cản quang ở những vùng không được phơi sáng.
    Ngâm:Chip được phủ lớp cản quang được ngâm trong dung dịch tráng. Thời gian và nhiệt độ ngâm thường cần được kiểm soát để đảm bảo lớp cản quang được loại bỏ đúng cách.
    Giặt giũ:Sau khi quá trình tráng hoàn tất, chip thường cần được rửa sạch để loại bỏ cặn dung dịch tráng và các tạp chất khác.
    Sấy khô:Cuối cùng, chip cần được sấy khô để đảm bảo bề mặt của chip khô và không còn cặn.

    Trong sản xuất tấm hiển thị, các bước phát triển tương tự cũng có thể được sử dụng để loại bỏ một số vật liệu hoặc hợp chất nhất định để tạo thành các mẫu hoặc cấu trúc cụ thể cho tấm hiển thị. Cần lưu ý rằng quy trình phát triển đòi hỏi phải kiểm soát chặt chẽ các thông số xử lý và thời gian để đảm bảo rằng các mẫu và cấu trúc thu được đáp ứng các yêu cầu thiết kế và độ chính xác của sản xuất. Ngoài ra, trong bất kỳ quy trình sản xuất nào, việc sử dụng các chất hóa học đều phải tuân thủ các quy trình vận hành an toàn và các yêu cầu bảo vệ môi trường tương ứng.

    Các chất hiện hình chủ yếu được sử dụng trong quá trình quang khắc trong ngành công nghiệp bán dẫn. Quá trình quang khắc là một bước quan trọng trong sản xuất chất bán dẫn, được sử dụng để xác định các mẫu và cấu trúc nhỏ trên các tấm silicon trên chip. Trong quá trình quang khắc, chất cản quang được phủ lên bề mặt của một tấm silicon, sau đó mẫu được chuyển sang chất cản quang bằng cách sử dụng mặt nạ và tiếp xúc với tia UV. Sau đó, chất hiện hình xuất hiện trên sân khấu. Chức năng của chất hiện hình là hòa tan hoặc loại bỏ phần chất cản quang chưa được quang khắc, do đó chuyển mẫu mong muốn sang tấm silicon. Bước này đặt nền tảng cho quá trình khắc, lắng đọng và các quá trình khác tiếp theo, đảm bảo rằng cấu trúc vi mô cần thiết trên chip có thể được sao chép chính xác vào tấm silicon. Việc lựa chọn và sử dụng chất hiện hình có tác động quan trọng đến chất lượng và hiệu suất của chip cuối cùng, do đó việc sử dụng chất hiện hình cần được kiểm soát chặt chẽ và tiêu chuẩn hóa trong quá trình sản xuất của ngành công nghiệp bán dẫn.

    mô tả2