vũ nữ thoát y
Bảng tham số
Khu vực ứng dụng | Phân loại | Tên sản phẩm | Tên khác | Chất lượng sản phẩm |
Màn hình TFT-LCD | vũ nữ thoát y | vũ nữ thoát y | vũ nữ thoát y | |
Dimethyl sulfoxide | DMSO | |||
Monoetanolamin | ĐIỀU |
Mô tả sản phẩm
Trong quá trình sản xuất mạch tích hợp và bảng hiển thị, "chất tẩy" thường dùng để chỉ chất hiện hình được sử dụng để loại bỏ các phần không được phơi sáng của chất cản quang. Các bước sử dụng của nó thường bao gồm:
Phơi bày:Trong quá trình sản xuất, chất cản quang được phủ lên bề mặt của tấm wafer silicon. Sau đó, lớp keo dính được chiếu sáng với hoa văn thiết kế. Thông qua quá trình quang khắc, hoa văn được chuyển sang chất cản quang.
Phát triển:Các phần không được phơi sáng cần phải được loại bỏ. Trong bước này, một chất hiện hình (chất tẩy) được sử dụng để loại bỏ lớp cản quang khỏi các vùng không được phơi sáng để tạo ra hoa văn mong muốn.
Vệ sinh:Vệ sinh tấm silicon và loại bỏ bất kỳ chất hiện hình nào còn sót lại trên bề mặt. Trong quá trình sản xuất tấm hiển thị, các chất hiện hình tương tự cũng có thể được sử dụng để loại bỏ một số vật liệu hoặc hợp chất nhất định để tạo thành các mẫu hoặc cấu trúc cụ thể của tấm hiển thị. Trong mọi trường hợp, việc sử dụng chất hiện hình đòi hỏi phải tuân thủ hướng dẫn và khuyến nghị về an toàn của nhà sản xuất để đảm bảo an toàn cho người lao động và sử dụng đúng thiết bị sản xuất.
Trong quy trình sản xuất chip, Stripper thường đề cập đến chất tẩy photoresist, được sử dụng để loại bỏ photoresist. Photoresist là vật liệu chính được sử dụng để chuyển mẫu trong sản xuất chip. Trong quy trình quang khắc, photoresist được phủ trên bề mặt chip, sau đó mẫu cần thiết được hình thành thông qua các bước như phơi sáng và tráng. Tuy nhiên, sau khi quá trình chuyển mẫu hoàn tất, photoresist còn lại trên bề mặt chip cần được loại bỏ để tiến hành bước quy trình tiếp theo, chẳng hạn như khắc hoặc lắng đọng. Lúc này, bạn cần sử dụng Stripper để loại bỏ photoresist. Stripper thường là dung dịch hóa học có thể hòa tan và loại bỏ photoresist nhanh chóng và hiệu quả mà không làm hỏng bề mặt chip. Quy trình này rất quan trọng để đảm bảo độ chính xác và chất lượng sản xuất chip. Sau khi loại bỏ photoresist, bề mặt chip trở nên sạch, cung cấp bề mặt sạch cho các bước quy trình tiếp theo.
mô tả2